Kimyasal Peeling

KİMYASAL PEELING

Sağlıklı, pürüzsüz bir cilde sahip olmak için kadın ve erkek pek çok kişi çeşitli dermokozmetik uygulamalardan faydalanmaktadır. Söz konusu uygulamaların başında kimyasal peeling gelmektedir. Bu cilt bakım uygulaması cildin kendini yenileme özelliğinden faydalanılarak, cildin ışıltılı bir yapıya kavuşmasını sağlamaktadır. Kimyasal peeling, deriyi canlandırmak, gençleştirmek ve görünüşü iyileştirmek için bir veya birkaç kimyasal bileşenin kişinin cilt yapısına bağlı olarak uygulanması ile farklı derinliklerde kontrollü hasar oluşturularak sağlıklı bir derinin ortaya çıkması işlemidir. Kimyasal Peeling ile amaç, deri tabakasına istenilen derinliğe kadar hasar oluşturmak ve rejenerasyon sırasında yara iyileştirmenin tetiklemesiyle kollajen ve elastin üretimi artışından yararlanarak sağlıklı deriye kavuşmaktır. İşlem sırasında ciltte yüzeysel tabakanın ayrılmasına ve soyulmaya neden olan kimyasal asit uygulanır. Hassas ciltlerde, lekeli ciltlerde ve sıkar izi olan ciltlerde uygulanabilen kimyasal peelingde en sık kullanılan asit bileşenleri; alfa hidroksi asitler (glikolik asit, meyve asitleri, laktik asit), beta hidroksi asitler (salisilik asit ), trikloroasetik asit ve Jessner solüsyonu ve kombinasyonlar şeklinde sıralamak mümkündür.